Incorporation of phosphorus into mesostructured silicas: A novel approach to reduce the SiO2 leaching in water

  1. García, A.
  2. Colilla, M.
  3. Izquierdo-Barba, I.
  4. Vallet-Regí, M.
Revista:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Ano de publicación: 2009

Volume: 21

Número: 18

Páxinas: 4135-4145

Tipo: Artigo

DOI: 10.1021/CM9012816 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus