Incorporation of phosphorus into mesostructured silicas: A novel approach to reduce the SiO2 leaching in water

  1. García, A.
  2. Colilla, M.
  3. Izquierdo-Barba, I.
  4. Vallet-Regí, M.
Aldizkaria:
Chemistry of Materials

ISSN: 1520-5002,  0897-4756

Argitalpen urtea: 2009

Alea: 21

Zenbakia: 18

Orrialdeak: 4135-4145

Mota: Artikulua

DOI: 10.1021/CM9012816 GOOGLE SCHOLAR

Garapen Iraunkorreko Helburuak

Datuen iturria: Scopus